鈦酸鉍鐵電薄膜的制備方法

2001年

應用技術

成果簡介

采用常壓有機化學汽相沉積工藝將鈦源和鉍源加熱揮發，用“氮氣為載汽攜帶揮發鈦源和鉍源通入生長室內，生長室內放有襯底，在常壓加熱情況下，在襯底上制得薄膜，該方法工藝簡單，方便，薄膜生長周期短，制得的薄膜均勻，致密，無微裂，且鐵電性能及電光性能良好，可用于制作鐵電存儲器和電光器件及鐵電超導復合器件。常壓有機化學汽相沉積工藝(APMOCVD)是最適合于工業化大規模生產的技術。鈦酸鉍鐵電薄膜可用于制...

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