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    低功耗半導體功率開關器件及其制造方法

    2006年 應用技術
    • 成果簡介
    一種低功耗半導體功率開關器件及其制造方法,提供低功耗的耐壓在2kV以內的IGBT、MCT和晶閘管。
    特征是: 離子注入形成的超薄、低雜質濃度的背p+發射區與包含單側殘留N型擴散層的雜質非均勻分布的N型基區的結合。
    方法特征是:其中非均勻摻雜N型基區中靠近p+區一邊的殘留擴散層是在襯底減薄之前的制造過程的第一步完成的,在襯底減薄之后只有低溫加工過程。本...

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