回轉反應爐熱裂解氟硅酸鈉制備四氟化硅的方法

2015年

應用技術

初期階段

成果簡介

本發明提供一種回轉反應爐熱裂解氟硅酸鈉制備四氟化硅的工藝，將氟硅酸鈉在200℃～300℃下在煅燒爐內干燥熱處理，除去其中的水份，煅燒爐內維持負壓，負壓值控制在10～30mmH2O；將干燥后的氟硅酸鈉送入回轉反應爐，在500～900℃(物料溫度)下熱裂解1～2個小時，熱裂解得到四氟化硅和氟化鈉。產生的四氟化硅氣體經過除塵、冷卻、干燥、壓縮、收集高純的四氟化硅氣體。本發明工藝過程反應物單一，無...

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回轉反應爐熱裂解氟硅酸鈉制備四氟化硅的方法

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