2017年 應(yīng)用技術(shù)
成熟應(yīng)用階段 本發(fā)明公開(kāi)了一種用于吸收太赫茲輻射的粗糙黑化金屬薄膜及其制備方法，該超薄金屬膜被所述金屬活性刻蝕劑的氟基等離子體轟擊處理，氟基等離子體的物理轟擊使金屬薄膜表面粗糙化。同時(shí)，通過(guò)調(diào)節(jié)刻蝕時(shí)氟離子能量與濃度，使大量氟離子吸附到金屬薄膜粗糙表面并在表面擴(kuò)散與反應(yīng)，獲得表面富集氟離子的金屬薄膜。刻蝕后氟離子在粗糙的金屬薄膜表面生成大量結(jié)晶缺陷，使金屬薄膜表面黑化。粗糙黑化的金屬薄膜表面結(jié)構(gòu)具有高表體比...
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