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    硅中納米孔層的形成及其應用探索

    2000年 應用技術  初期階段
    • 成果簡介
    該項目屬離子束與硅材料相互作用及其應用的基礎研究。在基礎理論研究與半導體材料與器件實際應用方面均具有重要的意義。國際上的一些著名實驗室相繼在九十年代開展了這方面的工作。在院基礎研究局的支持下,信息功能材料國家重點實驗室與德國馬普微結構研究所、美國密西根大學、香港城市大學等合作在國內率先開展了氫、氦離子注入形成納米孔層及其應用的研究,以適當劑量的氫、氦離子注入硅中,經熱處理,在硅中形成可控性...

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