2015年 應(yīng)用技術(shù)
成熟應(yīng)用階段 中微介質(zhì)刻蝕產(chǎn)品，已共有62臺機器（278個反應(yīng)臺）在26條十二英寸半導(dǎo)體廠生產(chǎn)線上從事量產(chǎn)，生產(chǎn)的晶圓片數(shù)超過1840 萬片。2011-2014年期間，中微28-15納米介質(zhì)刻蝕機產(chǎn)品的開發(fā)和在客戶端的應(yīng)用有了重大的進展，其中的單臺刻蝕機（SSC AD-RIE）在短短兩年內(nèi)，從26納米金屬通孔的出色表現(xiàn)開始，再經(jīng)過20納米的良率驗證，現(xiàn)已取代美國泛林刻蝕產(chǎn)品，成為韓國領(lǐng)先的閃存儲存器（N...
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