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    新型槽柵功率MOSFET器件研究

    2017年 基礎(chǔ)理論
    • 成果簡(jiǎn)介
      1、課題來(lái)源與背景
      功率半導(dǎo)體的作用是使電能更高效、更節(jié)能、更環(huán)保并給使用者提供更多的方便,是節(jié)能減排的基礎(chǔ)技術(shù)和核心技術(shù)。超結(jié)結(jié)構(gòu)的提出,代表一種新型的功率MOSFET開(kāi)關(guān)器件結(jié)構(gòu)。相對(duì)于傳統(tǒng)功率MOSFET器件,超結(jié)器件可以達(dá)到更高的擊穿電壓,或更低的導(dǎo)通電阻。但是,實(shí)現(xiàn)超結(jié)結(jié)構(gòu)的主要方式是采用多層外延和垂直深溝槽刻蝕技術(shù)。在多層外延工藝中,高溫和長(zhǎng)時(shí)間的退火推結(jié)會(huì)導(dǎo)致雜質(zhì)...

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