低雷諾數下標定臨界文丘里噴嘴的方法研究

2014年

應用技術

中期階段

成果簡介

（1）背景及來源
小喉徑，低流速臨界文丘里噴嘴的標定存在一些不確定因素。特別是很多半導體行業和高精度的流量計需要適用于低壓環境的校準方法，而低壓環境下相應的雷諾數有可能不在現行檢定規程的適用范圍之內。為此國家質量監督檢驗檢疫總局立項，研究在低雷諾數下噴嘴流動存在非穩態、非臨界流動的原因及相應的標定方法。
（2）技術原理及技術指標
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低雷諾數下標定臨界文丘里噴嘴的方法研究

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