2013年 應(yīng)用技術(shù)
成熟應(yīng)用階段 1.課題來源：
3米級(jí)大型磁控濺射光學(xué)鍍膜設(shè)備（JC3200-1/G型磁控濺射鍍膜設(shè)備）是成都南光機(jī)器有限公司為中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所研制的專用磁控濺射設(shè)備。適用于航空、航天、衛(wèi)星、飛船等對(duì)地觀測(cè)大型光學(xué)元件的制作及對(duì)空觀測(cè)的大型空間經(jīng)緯儀光學(xué)系統(tǒng)的制作。也適用于天文觀測(cè)臺(tái)/站，氣象觀測(cè)臺(tái)（站）等科研單位，為大型光學(xué)望遠(yuǎn)鏡鍍制大尺寸光學(xué)元件。 
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