<ul id="swccm"></ul>

<fieldset id="swccm"></fieldset>

等離子體化學氣相沉積法制備低水峰光纖的關鍵技術合應用

2010年

應用技術

成熟應用階段

成果簡介

　　本項目在充分利用PCVD工藝沉積效率高和對折射率剖面控制精準的基礎上，從設備到工藝進了徹底革新，解決了PCVD 難于制造低水峰光纖和大尺寸光纖預制棒的難題，并開發了行業領先的抗彎曲單模光纖預制棒和光纖。具體措施和創新點如下：一、開發了在線純化技術，有效降低了PCVD 預制棒中的羥基含量，成功研制出低水峰光纖預制棒；二、采用功能梯度的材料組成和結構設計，在防止外界羥基對芯層侵蝕的同時，可降低光纖...

相關成果

1. 等離子體氣相沉積法制造低水峰光纖技術及規模化生產的研究
2. 等離子體化學氣相沉積硬膜技術
3. 微波等離子體化學氣相沉積制備金剛石膜和單晶
4. 等離子體增強化學氣相沉積(PCVD)技術
5. 材料表面等離子體化學氣相沉積（PCVD）技術
6. 用等離子體化學氣相沉積(PVCD)法研制6.5%硅鋼片
7. 等離子體化學氣相沉積法制備高純TiO_2納米顆粒技術
8. PCVD-300等離子體化學氣相沉積設備
9. 化學氣相沉積(CVD)金剛石制備及工具應用
10. 化學氣相沉積法SiC連續纖維用炭芯的研制
12. 等離子體氣相沉積法制造新一代多模光纖關鍵技術的研究
13. 等離子體增設化學氣相沉積硬涂層（TiN，Tic等）技術
14. 磁控電子回記在等離子體化學氣相沉積技術研究
15. 等離子體化學氣相沉積法制備碳化鈦及碳氮化鈦超細粉末
16. 激光化學氣相表面沉積
17. CVD、PCVD、PECVD化學氣相沉積設備
18. 等離子體氣相沉積納米減磨鍍層研究
19. 先進高真空化學氣相沉積系統研發及應用
20. 固體源化學氣相沉積生長ZnO薄膜

精品福利一区二区三区免费视-精品福利一区二区三区免费视频-精品福利一区二区在线观看-精品高潮呻吟99AV无码-精品高潮呻吟AV久久无码-精品高精欧美囯产日韩一区

等離子體化學氣相沉積法制備低水峰光纖的關鍵技術合應用

標簽云

猜您想要的成果

相關專家

相關機構


	選擇導出文檔的格式關閉 PDF PDF RTF(word文檔) TXT(純文本)


	提示信息關閉發送短信成功


	提示信息關閉發送短信失敗


	提示信息關閉發送郵件失敗


	提示信息關閉郵件發送成功