2010年 應用技術
成熟應用階段 2007年8月，我司在研制開發(fā)的±0.02℃高精度溫度控制系統(tǒng)樣機成功用于國家“十五”863重大專項100nm光刻機樣機的基礎上，得到了國家發(fā)改委當年“電子專用設備儀器、新型電子元器件及材料核心基礎產(chǎn)業(yè)化”專項資金補助。經(jīng)過兩年的技術攻關，我司開發(fā)了具有自主知識產(chǎn)權的超精密溫度控制、高精度溫度控制兩個型號產(chǎn)品，滿足了不同集成電路裝備對溫度控制系統(tǒng)的不同要求；并建立了兼容多種溫度控制產(chǎn)品裝配和檢...
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