無顯影氣相光刻的機理研究

1999年

應用技術

成果簡介

光刻是微電子和微機械及國防尖端等高新技術的核心技術。無顯影氣相光刻(DFVP)是近年我國發明的獨樹一幟的光刻技術，但它是由一個偶然的發現的現象而發展起來的，由于缺乏理論的指導，該技術的發展并沒有預期的那么迅速，在學術上也很難得到國際上的認可。DFVP技術機理研究是原始創新性的基礎理論研究，是化學特別是高分子化學與光刻技術交叉的研究。DFVP是建立在光致誘蝕劑濃度差基礎上新的光刻技術，而傳統...

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無顯影氣相光刻的機理研究

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