2004年 應用技術
該金屬氧化膜電阻器制造工藝采用含鑭系和錒系稀土元素的Si-Cr-Ni-Re四元合金體系高阻濺射靶材為原材料(具體成分為Si35％-72％、Cr25％-50％、Ni2％-20％，稀土元素含量為三元素總重量的0.1％～3.0％)，采用直流濺射輔以離子電源加射頻濺射工藝，得到獨特的雙層膜結構電阻體，直流濺射和射頻濺射氣體采用不同體積百分比的氙氣和氧氣混合物。所制成的電阻器性能穩定、精密度高，適合精密型電...
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