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    硫系化合物相變材料化學機械拋光納米拋光液及其應用

    2008年 應用技術  中期階段
    • 成果簡介
    用于硫系化合物相變薄膜材料GexSbyTe(1-x-y)化學機械拋光(CMP)的納米拋光液及利用化學機械拋光制備納電子器件相變存儲器的方法。該CMP納米拋光液包含有氧化劑、螯合劑、pH調節劑、納米研磨料、抗蝕劑、表面活性劑及溶劑等。該拋光液損傷少、易清洗、不腐蝕設備、不污染環境,主要用于制造相變存儲器關鍵材料GexSbyTe(1-x-y)的CMP。利用上述拋光液采用化學機械拋光方法去除多余...

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