新型光學鍍膜材料的制備技術及產(chǎn)業(yè)化

2005年

應用技術

成果簡介

　　研制開發(fā)特種高純光學鍍膜材料，用于制備高功率激光器的光學鍍膜元件。所需研制提供的材料為特種紫外級HfO_2膜料和ZrO_2＋Y_2O_3（9:1）混合膜料。
　　本項目以初級氧化鉿（含81.2%，HfO_2）為原料，采用濕法冶金過程分離鐵、鎳、鉻等雜質(zhì)，并用萃取方法深度分離鋯、鉿，制備紫外級氧化鉿鍍膜材料，其鋯含量為0.36%，達到紫外級氧化鉿材料對鋯含量（ZrO_2＜0.5%）...

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新型光學鍍膜材料的制備技術及產(chǎn)業(yè)化

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