2007年 應(yīng)用技術(shù)
10Gb/s DFB+EA集成光源器件是由利用量子限制Stark效應(yīng)工作的電吸收EA調(diào)制器和由內(nèi)光柵耦合確定波長的分布反饋DFB激光器在同一芯片上集成所形成，可以同時達(dá)到高速率和低色散的要求。這種集成器件被認(rèn)為是當(dāng)前解決高速光調(diào)制的最佳方案之一。本課題主要研究用波導(dǎo)對接耦合方法實(shí)現(xiàn)DFB激光器和EA調(diào)制器單片集成的技術(shù)。
預(yù)期達(dá)到如下技術(shù)指標(biāo)：工作波長1545～1565nm；閾... 
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