2006年 應用技術
一種半導體材料表面顆粒去除的清洗液及其清洗方法，它是由有機堿、非離子表面活性劑和純水混合組成，其中有機堿的重量占22%～40%，表面活性劑的重量占3%～15%、純水的重量占45%～75%；清洗方法包括：取清洗劑清洗；用去離子水超聲；噴淋；烘干。本發明的優越性在于：清洗劑中選用的有機堿，能夠根據結構相似相溶原理，溶解半導體材料表面的有機污染物，提高清洗劑均勻腐蝕性，保證清洗的一致性；加入了特...
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