用于投影掃描光刻機的對準方法及微器件制造方法

2007年

應用技術

成果簡介

　　本發明公開了一種用于掃描投影光刻機的利用三個基本光柵周期的相位光柵探測的對準方法，以及使用該方法的微器件制造方法。
　　本發明的用于投影掃描光刻機的對準方法在基底標記或基底臺基準標記使用三周期相位光柵，只利用這三個周期的一級衍射光作為對準信號，可以實現大的捕獲范圍的同時獲得高的對準精度和較強的信號強度，提高系統信噪比，簡化光路設計和調試難度，簡化硬件實現和縮小信號處理時間開銷，提高...

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