用于化學氣相沉淀裝置的真空波紋吸著管

2006年

應用技術

成果簡介

本發明公開了一種用于化學氣相沉淀裝置的真空波紋吸著管，包括以下五個部分：一彈簧波紋管，其彈簧波紋的牙數可取35牙到45牙之間；兩個連接部分，分別位于彈簧波紋管的前后兩端；一波紋管后端臺階，表面處理精度應小于0.8μm2Ra；一波紋管前端臺階，表面處理精度應小于0.8μm2Ra，其外徑的尺寸的選取應保證能與硅片吸盤的真空管道實現過盈配合；一長管，可將其插入硅片吸盤的真空管道中；上述五個部分之...

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用于化學氣相沉淀裝置的真空波紋吸著管

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