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透射電鏡用薄膜樣品的制備方法

2004年

應用技術

成果簡介

本發明公開了一種透射電鏡用薄膜樣品的制備方法，具體步驟為：1)利用磁控濺射方法鍍制金屬或合金膜，磁控濺射以合金靶為負極，襯底為正極，背底真空度2.0～8.0×10^(-5)Pa；氣氛為Ar氣氛，真空度6.5～7.5×10^(-1)Pa；電流0.5～2A；電壓100～300V；2)在金屬或合金膜上沖出圓片；3)將圓片進行雙噴減薄或者離子減薄制得電鏡觀察用的樣品。本發明采用磁控濺射的方法，可以...

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透射電鏡用薄膜樣品的制備方法

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