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微電子刻蝕工藝加工新型光柵

2007年

應用技術

成熟應用階段

成果簡介

　　利用高密度等離子體刻蝕設備，半導體光刻工藝技術和激光全息技術，加工出微結構光柵，光柵周期660/毫米，深度大于2微米，能夠在1550納米光通信波段以并行方式實現全波段的解復用，效率高于80%，具有串擾小、并行度高、波長分辨率高等優點。利用改進的石英玻璃深刻蝕技術，在石英玻璃基底上加工出了優化深度具有偏振分光功能的光柵，該光柵具有光譜范圍寬、使用壽命長、不易霉變、穩定、可靠、熱穩定性好等優點。...

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微電子刻蝕工藝加工新型光柵

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