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    一種納電子相變存儲器的制備方法

    2007年 應用技術  中期階段
    • 成果簡介
      本發明涉及一種納電子相變存儲器的制備方法。屬于微電子學中的納米材料的制造工藝。
      特征在于:首先在襯底材料上沉積一層下電極材料W,然后依次沉積一層Al和一層SiO_2。通過曝光、刻蝕,在SiO_2上刻蝕出孔,使下層Al曝露出來,然后通過陽極氧化法在曝露出的部分形成多孔氧化鋁,同時對每個孔進行進一步的加工,可以形成為唯一的一個納米尺度的氧化鋁小孔,或形成孔徑一致,分布均勻納米孔陣列...

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