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類金剛石薄膜沉積技術

2007年

應用技術

成果簡介

　　項目概述
　　金剛石薄膜集力學、電學、熱學、光學等優異特性于一身，被公認是最有發展前途的新型電子材料，金剛石薄膜是一種優異的高溫半導體材料，對半導體器件的發展將起到舉足輕重的作用。此外，金剛石薄膜還將使超大規模和超高速集成電路的發展進入一個新的時代。上海大學材料學院長期從事“類金剛石薄膜沉積技術”研究，取得了顯著的成果。“類金剛石膜作光學增透膜新應用”項目，1992獲國家發明專利，...

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類金剛石薄膜沉積技術

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