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單分散納米氧化鋯的制備

2007年

應用技術

成果簡介

　　本專利技術攻克了納米氧化鋯生產過程中的技術難關，采用特殊的合成技術，在常壓低溫液相中原位合成出單分散的釔、鎂穩定的四方相納米氧化鋯。工藝簡單，粒徑可調，最小粒徑4～5nm。
　　該方法工藝簡單，避免了傳統的高溫煅燒、高壓反應等復雜的合成手段。制得的氧化鋯及其復合材料具有良好的化學穩定性、硬度和韌性等優勢，拓展了它的應用領域，顯著提高的耐高溫和耐酸堿腐蝕能力，提高了性價比，使其在特種...

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單分散納米氧化鋯的制備

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