ZnO薄膜生長用MOCVD設備

2007年

應用技術

成果簡介

　　通過與沈陽市超高真空應用技術研究所合作，研制了一臺添加了射頻等離子源的專門用于ZnO薄膜生長的MOCVD設備。
　　本實用新型的優點是可提高ZnO薄膜生長質量和均勻性，有利于p型或高阻摻雜。申請的實用新型專利已轉讓給沈陽市超高真空應用技術研究，該研究所已將本技術成果推向定型生產，迄今已銷售了3臺這種新型ZnO薄膜生長的MOCVD設備，總產值210萬元，增加利稅42萬元。該設備經用戶...

相關成果

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ZnO薄膜生長用MOCVD設備

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