2007年 應(yīng)用技術(shù)
首先，合成了含硫聚氨酯型及環(huán)氧、環(huán)硫型高折射率有機(jī)聚合物基體，其折射率為Nd：1.6～1.70，此基材可作為納米微粒復(fù)合的基底材料。然后，制備了小尺寸的無(wú)機(jī)納米微粒，如ZnS、PbS等，對(duì)其進(jìn)行表面修飾并均勻第復(fù)合到高分子材料中，當(dāng)體相材料中無(wú)機(jī)納米微粒的含量達(dá)到10%，膜層材料中無(wú)機(jī)納米微粒的含量達(dá)到60%以上時(shí)，該復(fù)合材料仍具有很好的可見(jiàn)透光性。納米微粒經(jīng)表面修飾后，具有功能性官能團(tuán)，...
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