2007年 應(yīng)用技術(shù)
采用先進(jìn)配方和制備工藝生產(chǎn)大尺寸高硅含量用于電阻工業(yè)的金屬膜、金屬氧化膜系列電阻靶材，用該靶材濺射的電阻符合ISO-9000和國標(biāo)及企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，已用于長虹等國產(chǎn)名牌彩電上。
應(yīng)用領(lǐng)域：金屬膜電阻器、金屬氧化膜電阻器磁控濺射。 技術(shù)指標(biāo)：長靶：380×127×12+1 中阻阻值＜100Ω，TCR＜50PPm/℃ ... 
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