2007年 應(yīng)用技術(shù)
該項(xiàng)目屬于材料學(xué)科中功能薄膜材料領(lǐng)域，研究內(nèi)容主要集中在功能薄膜材料的制備、構(gòu)與性能以及應(yīng)用方面。
1、AIN薄膜制備、結(jié)構(gòu)與表聲波性質(zhì) 采用自行設(shè)計(jì)的570型磁控濺射沉積系統(tǒng)，在Si等基片上成功地制備出了高質(zhì)量的薄膜。研究了反應(yīng)濺射的現(xiàn)象和狀態(tài)；弄清了薄膜的擇優(yōu)取向機(jī)理，建立了擇優(yōu)取向程度實(shí)驗(yàn)參數(shù)之間的函數(shù)關(guān)系：分析了薄膜的組成；確立了薄膜表面粗糙... 
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