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CMP專用納米磨料生長粒徑控制技術研究

2006年

應用技術

中期階段

成果簡介

　　一、任務來源：天津市科技發展計劃項目。
　　二、應用領域和技術原理：
　　粒徑可控為微電子CMP多種用途提供了高質無污染、高純、高濃度SiO_2納米磨料，建立了硅溶膠生長機理，采用控制粒子數多級分次生長等液面法，制備出所需粒徑范圍內的產品，實現粒徑可控生長；運用陽－陰－陽三步離子樹脂交換法，將硅溶膠中金屬離子含量降至ppm級，實現了高純。
　　三、性能指標。...

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CMP專用納米磨料生長粒徑控制技術研究

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