1998年 應(yīng)用技術(shù)
該敏感元件采用離子束濺射淀積成膜技術(shù)，優(yōu)于國內(nèi)外廣泛采用的真空蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)和磁控濺射等傳統(tǒng)工藝，使介質(zhì)隔離層絕緣性達(dá)10^4MΩ/100V.DC，橋臂電阻值高達(dá)2～10kΩ，膜層均勻，成膜成品率高達(dá)75%。該敏感元件具有精度高、零點(diǎn)漂移小、穩(wěn)定性及動態(tài)特性好等優(yōu)點(diǎn)，是測量壓力參數(shù)的新品種，技術(shù)性能指標(biāo)已達(dá)到企業(yè)軍用標(biāo)準(zhǔn)QJB/UM001-95的要求，并已成功地用于某戰(zhàn)術(shù)導(dǎo)彈試車和飛機(jī)試...
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