亞微米IC綜合剖析技術

1999年

應用技術

成果簡介

(1)縱向剖面定位技術。多視角、多層次地觀察亞微米器件微區結構，顯示原子點陣的高分辨氧化層界面像。(2)微區顯示技術。成功開發了0.6-0.8μm掩膜ROM的碼點染色技術、P+高開啟注入形成的并聯ROM的碼點染色技術、0.8μm集成電路的正面版圖染色技術。(3)亞微米化學機械拋光(CMP)工藝集成電路的表面介質層剖析技術。能給出0.5_(μm)CMP工藝集成電路表面介質層的各種結構及其組份。(4)...

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亞微米IC綜合剖析技術

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