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    高純納米級ITO復(fù)合粉末(銦、錫氧化物復(fù)合粉末)

    2002年 應(yīng)用技術(shù)
    • 成果簡介
    ITO透明導(dǎo)電氧化物(摻錫氧化銦Tin-doped Indium Oxide簡稱ITO)薄膜材料,具有禁帶寬 、可見光譜區(qū)光透射率高和電阻率低等共同光電特性。ITO材料研究與應(yīng)用較為廣泛、成熟,其中,大尺寸、高性能電子濺射靶(ITO靶材)是電子及信息產(chǎn)業(yè)不可缺少的材料,它廣泛用于電子線 路基板的鍍層;硬盤等耐磨鍍層;光、電、磁的功能膜層等,如計算機(jī)光盤、家庭映碟、筆計本電腦的顯示屏、太陽能電池和其...
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