2005年 應(yīng)用技術(shù)
1、成果內(nèi)容簡介：紫外負(fù)性光刻膠及其他膠種(正膠)是集成電路制造中的關(guān)鍵材料，80年代“巴統(tǒng)”一直將其列為禁運(yùn)范圍。“八五”期間為了滿足中國微電子加工技術(shù)從5微米向3微米技術(shù)轉(zhuǎn)化，并為“九五”1微米技術(shù)的發(fā)展打下基礎(chǔ)。蘇州電子材料廠同復(fù)旦大學(xué)、交通大學(xué)聯(lián)合研制了FSN-2(出廠牌號(hào)RFJ-230)負(fù)性光刻膠，JSP-IV(出廠牌號(hào)RZJ-301)正性光刻膠。并要求其綜合性能分別同OMR-85膠和A...
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