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BKJ100-2B型接觸/接近式光刻機

2005年

應用技術

成果簡介

一、成果內容簡介、關鍵技術、技術經濟指標：1、成果簡介：針對中國集成電路生產線的要求，以“七五”攻關成果半自動光刻機為基礎設計開發并能批量生產性能穩定、使用可靠的BKJ100-2B型接觸/接近式光刻機，以滿足國內3微米工藝線的需要。該成果不僅要求能達到日本CanonHJA-501F光刻機的水平，而且還能提供用戶批量的光刻設備。因此，除了在設計中解決有關曝光均勻性、曝光量的重復精度、精密工作臺的精密...

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BKJ100-2B型接觸/接近式光刻機

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