2001年 應(yīng)用技術(shù)
初期階段 本項(xiàng)成果“高熔點(diǎn)金屬原子束發(fā)射源”為一項(xiàng)實(shí)用新型專利，它在有關(guān)原子光刻研究的國(guó)家自然科基金和上海市科技基金的支持下完成。
高熔點(diǎn)金屬原子束發(fā)射源主要用于原子物理學(xué)，原子光譜學(xué)及量子光學(xué)的實(shí)驗(yàn)研究，用來獲得難熔金屬的原子束流。該器件可安裝在其真空裝置以外，因而解決了大電流和冷卻水進(jìn)出真空室的技術(shù)難題，并大大減低高溫?zé)嵩磳?duì)真空室的影響，且便于原子束材料的填充，加熱器的更換等... 
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