氧化膜外延設備

2002年

應用技術

成果簡介

該實用新型專利是一種以強氧化劑和強還原劑為源生成氧化膜的外延設備。該設備反應罩的上部有兩個進氣口，它們分別連通氣體源氣路和液體源氣路。在位于石英反應罩內的轉臺與兩個進氣口之間，設有一塊防止從氣體源或液體源主路中進入的兩路源氣在反應室空間相遇的隔板。石英反應罩下端位于底座上，底座連通反應室腔并通過抽氣管道與抽氣泵相通，底座一側還設有進樣品窗口。底座上設使反應室腔內轉桿轉動的傳動機構，兩三通閥的另一路...

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氧化膜外延設備

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