脈沖真空電弧離子源

2004年

應用技術

成果簡介

脈沖真空電弧離子源，也稱為脈沖等離子體發生器或脈沖多弧離子源。它可在高真空下(3×10^(-3)Pa以上)，利用真空脈沖電弧放電使陰極材料蒸發并電離，形成純凈的等離子體，沉積在基片上之后形成所需膜層。由于在整個工藝過程中只產生純等離子體，膜層性能穩定，可在低溫下生成表面光滑細致且附著力極好的高質量膜層。該離子源可用于各類金屬膜、合金膜以及類金剛石薄膜的鍍制。采用脈沖真空電弧離子鍍技術來研制類金剛石...

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脈沖真空電弧離子源

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