2003年 應(yīng)用技術(shù)
該課題確定了在不同負(fù)載下，高頻介質(zhì)加熱設(shè)備與負(fù)載匹配的匹配條件與方法。高頻加熱設(shè)備的負(fù)載處于臨界狀態(tài)或超出高頻加熱設(shè)備對(duì)負(fù)載匹配調(diào)整范圍時(shí)，在高頻加熱設(shè)備與負(fù)載之間加入匹配電路，使高頻加熱設(shè)備與負(fù)載達(dá)到匹配的目的。高頻加熱設(shè)備的輸出電流（工作頻率：13.56MHz；Io=Ia-Ig）：當(dāng)Va=6kV（或額定陽極電壓）時(shí)，Io＜2A（或額定陽極電流）；當(dāng)Va=8kV（或額定陽極電壓）時(shí)，Io＜1.5...
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