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功率光導開關砷化鎵基體材料特性的研究

2001年

應用技術

成果簡介

該項目提出了用化學鍍在GaAs表面制備Cu膜的工藝，利用自催化效應、絡合劑的作用和鍍Cu過程中Cu的還原反應對鍍液酸堿度敏感的特性，解決了鍍Cu過程中使Cu沉積只發生在CaAs表面、防止相關化學反應中非Cu沉積物在GaAs表面沉積和控制適當的Cu沉積速率三個難題，使鍍制的Cu膜純度高、厚度均勻、附著性好。該成果達國際先進水平。...

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功率光導開關砷化鎵基體材料特性的研究

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