2005年 應用技術
中期階段 隨著大規(guī)模集成電路技術的發(fā)展，傳統(tǒng)投影光刻技術的分辨極限受到光刻物鏡的數(shù)值孔徑和曝光光源波長的限制。無掩模激光干涉光刻技術是集激光技術、干涉和衍射光學及光學光刻于一體的新型光刻技術，其主要特點在于用多束相干激光束的組合干涉和采用多次曝光方法產(chǎn)生微米和納米級周期圖形陣列，其圖形極限尺寸達四分之一曝光波長，是其它方法難以實現(xiàn)的。
“無掩模激光干涉光刻研究”是國家自然科學基金... 
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