2001年 應用技術
銦錫氧化物(INDIUM TIN OXIDE)薄膜是一種非常重要的功能陶瓷薄膜。工業制備ITO薄膜的方法是直流磁控濺射法，用直流磁控射法要求獲得高質量的獲膜。關鍵是采用高密度、高純度、高均勻性的ITO靶材，該項目以金屬銦和SNCL_4.5H_2O為源物質，按90WT%+IN_2O_3+10WT%SNO_2配比，用化學共沉淀法制備ITO復合粉末。復合粉末經冷等靜壓等成型后進行熱等靜壓致密比，從而...
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