氧化鋅薄膜生長用金屬有機化合物氣相淀積設備

2005年

應用技術

成果簡介

本實用新型涉及一種用于生長寬帶隙半導體氧化鋅薄膜的MOCVD設備。MOCVD反應室由底座法蘭盤、反應室側壁、旋轉軸、磁流體軸承、上法蘭盤、不銹鋼絲網、加熱片、襯底片托盤、雜質源氣路、副氣路、混氣室、鋅源噴槍、氧源噴槍、勻氣套、射頻等離子發生器等部件構成。本實用新型的優點是可提高ZnO薄膜生長質量和均勻性，有利于p型或高阻摻雜。本系統采用主、副氣流的雙流輸運氣路。主氣路由分別輸入鋅源和氧兩個...

相關成果

1. ZnO薄膜生長用MOCVD設備
2. 金屬有機化學汽相淀積生長鐵電薄膜材料和金屬有機化學汽相淀積生長TiO_2薄膜氣敏傳感器
3. 金屬有機化學汽相淀積生長鐵電薄膜材料和金屬有機化學汽相淀積生長TiO_2薄膜氣敏傳感器
4. 等離子體增強化學氣相淀積設備
5. 等離子體增強化學氣相淀積設備
6. 金屬有機物化學氣相淀積設備的多層流反應室結構
7. M80100-1/UM型低壓化學氣相淀積設備
8. M8020-1/UM型液態源化學氣相淀積設備
9. 固體源化學氣相沉積生長ZnO薄膜
10. 電子回旋共振化學氣相淀積技術
12. 電子回旋共振等離子體化學氣相淀積氮化硅薄膜的方法
13. 金屬有機物化學氣相淀積設備反應室中的公轉自轉機構
14. 生長氧化物薄膜的金屬有機物化學氣相沉積反應室結構
15. 快速輻射加熱/超低壓化學氣相淀積系統
16. 金屬有機化學氣相沉積生長m面或a面ZnO薄膜的方法
17. 金屬有機化學氣相沉積生長m面或a面ZnO薄膜的方法
18. 利用可協變襯底制備生長氧化鋅薄膜材料的方法
19. 一種化學氣相傳輸方法生長氧化鋅晶體的方法
20. 一種化學氣相傳輸方法生長氧化鋅晶體的方法

精品福利一区二区三区免费视-精品福利一区二区三区免费视频-精品福利一区二区在线观看-精品高潮呻吟99AV无码-精品高潮呻吟AV久久无码-精品高精欧美囯产日韩一区

氧化鋅薄膜生長用金屬有機化合物氣相淀積設備

標簽云

猜您想要的成果

相關專家

相關機構


	選擇導出文檔的格式關閉 PDF PDF RTF(word文檔) TXT(純文本)


	提示信息關閉發送短信成功


	提示信息關閉發送短信失敗


	提示信息關閉發送郵件失敗


	提示信息關閉郵件發送成功