非平衡磁控濺射方法沉積摻鉺、鐿鉺共摻Al2O3薄膜

2005年

應用技術

初期階段

成果簡介

一. 課題來源與背景
該課題源于遼寧省科學技術廳項目：非平衡磁控濺射方法沉積摻鉺Al_2O_3薄膜。摻鉺、鐿鉺共摻Al_2O_3薄膜是摻鉺光波導放大器和光電子集成等領域研究的基礎，對全光通信和光電一體化的發展有著重要的作用。
二. 技術原理及性能指標
將永久磁鐵非均勻分布，使濺射靶和樣品之間形成閉合非平衡場。等離子轟擊鑲嵌鉺、鐿的...

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非平衡磁控濺射方法沉積摻鉺、鐿鉺共摻Al2O3薄膜

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