JTR-700集熱管磁控濺射鍍膜機

1996年

應用技術

成果簡介

　　適用于鍍制太陽光譜選擇性吸收涂層，采用磁控濺射和磁控反應濺射原理，以鋁（單靶）或銅和不銹鋼（雙靶）制造的靶為膜材，濺射電源采用自動恒流源，玻璃管繞靶作公、自轉運動，抽空后，轉入自動鍍膜程序，在玻璃管外表面鍍制一層純金屬熱反射層，微機程控輸入反應氣，鍍制多層由金屬向金屬介質逐漸過渡的遞變膜系。這種材料和結構的多層膜系，具有極好的太陽能光譜吸收率（約92%）和極低的熱發射率（約6%），是太陽能熱利...

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JTR-700集熱管磁控濺射鍍膜機

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