1993年 應(yīng)用技術(shù)
該光刻機集精密機械、光學(xué)、微機和氣動控制技術(shù)于一體，利用分離視場顯微鏡和精密傳動系統(tǒng)對掩膜和硅片進行移動及精確對準，而后曝光系統(tǒng)進行紫外光刻。整機系統(tǒng)復(fù)雜、精度高、難度很大。該設(shè)備主要用于大規(guī)模集成電路生產(chǎn)線上。
主要技術(shù)指標：適用掩膜：口5″×5″、口4″×4″；適用基片：φ100mm、φ75mm；光刻線寬：2.5～3μ；曝光譜線為：365nm、405nm、436nm... 
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