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    一種提高薄膜型ZnO場發射特性的方法

    2014年 應用技術  初期階段
    • 成果簡介
    本發明公開了一種提高薄膜型ZnO場發射特性的方法,首先制得摻Al的ZnO陶瓷靶材,然后制備摻Al的ZnO薄膜,將制得的摻Al的ZnO薄膜切割成0.5cm2見方作為陰極,ITO玻璃作為陽極,用玻璃絲將陰極與陽極隔離,間隔為100微米,送入KEITHLEY?2410真空測試系統進行測試,真空度為5×10-7Pa,當場發射電流密度為10-6A/cm2時,陽極ITO玻璃和陰極摻Al的ZnO薄膜之間...

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