單管臥式熱壁型PECVD

2004年

應用技術

成熟應用階段

成果簡介

工藝原理與參數控制
化學氣相淀積（Chemical Vapor Deposition；CVD）是指一種或數種物質的氣體，以某種方式激活后，在襯底表面發生化學反應，并淀積出所需固體薄膜的生長技術。
CVD技術具有淀積溫度低、薄膜成分與厚度易控、膜厚與淀積時間成正比、均勻性與重復性較好、臺階覆蓋優良、操作簡便、適用范圍廣泛等一系列特點。較低的淀積溫度與良...

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單管臥式熱壁型PECVD

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