分室連續PECVD設備自動控制系統

2001年

應用技術

中期階段

成果簡介

采用可編程序控制器，根據各反應室中基片、閥門、電極等移動部件的位置及各種真空表、溫度計、反應氣體壓力計等儀表提供的監控信號，按照預定工藝程序全自動控制基片傳送過程。
　　主要技術指標如下：
　　基片傳送邏輯可根據工藝條件現場編程，操作簡單明了；定位精度：水平定位偏差＜±1mm；垂直定位偏差＜±0.5mm；控制系統具備標準擴展接口可與PC機相連接，進一步擴展系統功能。...

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分室連續PECVD設備自動控制系統

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