2002年 應(yīng)用技術(shù)
中期階段 離子鍍工藝屬于物理氣相沉積（PVD）的一種。離于鍍TiN涂層工藝的基本原理是把金屬蒸發(fā)源作為陰極，與作為陽極的真空室產(chǎn)生弧光放電，使陽極金屬靶材鈦蒸發(fā)并離子化，再與通入室內(nèi)的離子化氮?dú)饨Y(jié)合形成TiN，沉積在加有負(fù)偏壓的工件表面。由于TiN涂層具有高的硬度、高的耐磨性及耐蝕性等特點(diǎn)，已在刀具上取得成功應(yīng)用，但因模具惡劣的工作條件，國內(nèi)外TiN涂層在模具上的應(yīng)用還極為困難，因而本課題的研究具有...
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