基于柔性基底的生物微電極陣列的制備方法

2007年

應(yīng)用技術(shù)

成果簡介

本發(fā)明涉及一種基于柔性基底的生物微電極陣列的制備方法，采用二次光刻和電鑄工藝，在基片表面依次涂覆聚二甲基硅氧烷犧牲層和聚酰亞胺酸，熱固化形成聚酰亞胺柔性基底，在柔性基底上通過濺射、光刻和電鑄工藝制備金屬電路，然后刻蝕金屬底膜，涂覆聚酰亞胺酸，光刻并刻蝕聚酰亞胺酸，電鑄金屬電極，熱固化形成聚酰亞胺，將制備好的基于聚酰亞胺柔性基底的生物微電極陣列從聚二甲基硅氧烷上剝離下來。電極位于金屬電路的兩...

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基于柔性基底的生物微電極陣列的制備方法

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